进入10nm之后，星最先进线投芯片半导体工艺制造越发困难，量产目前有能力在10nm以下竞争的星最先进线投芯片有Intel、台积电和三星三家。量产
昨天晚间消息，星最先进线投芯片三星方面宣布，量产位于韩国华城的星最先进线投芯片V1工厂已经开始批量上产基于EUV（极紫外）工艺的6nm和7nm芯片。
按照三星的量产计划时间，预计到2020年年底，星最先进线投芯片V1生产线的量产累计总投入将达60亿美元，7nm以下先进工艺的星最先进线投芯片总产能将是2019年的3倍。
据了解，量产V1工厂于2018年2月动工，星最先进线投芯片2019年下半年开始测试晶圆生产，量产第一批产品将于今年第一季度交付给客户。星最先进线投芯片
在未来的计划中，V1工厂最高可代工到3nm芯片。三星制造业总裁认为，V1和S3产线可帮助三星拓展更多客户，及时响应市场需求。
随着V1生产线的投入，三星目前已经拥有6家晶圆厂，5条位于韩国，1条位于美国德克萨斯州（为高通、英特尔、英伟达提供生产）。
(责任编辑：综合)
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